[기계工學] 플라즈마에 대한 特性(특성) 및 적용분야
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작성일 20-02-06 20:28본문
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설명
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-> Dry etching : 플라즈마에 의해 활성화 된 라디칼, 전자 등을 이용하여 etching.
플라즈마란?
플라즈마
저온 플라즈마의 적용분야
순서
플라즈마에 대한 特性(특성) 및 적용분야에 대한 레포트입니다. -> 표면개질 : Plasma에 의해 활성화 된 이온이나 전자들에 의해 고체 표면을 화학적으로 개질하는 것.
-> Sputtering : ion등을 전계로 가속시켜 대상물질에 입사시키면, 대상물질에서 이온등의 입자가 방출되고 이것들을 기판에 증착 또는 코팅시킴.
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-> Plasma 중합 : 플라즈마에 모노머를 주입시켜 polimerization을 통하여 기판에 고분자막을 생성시킴.
플라즈마라는 말을 물리학 용어로 처음 사용한 사람은 미국의 물리학자 `Langmuir`(랑뮈어)로서, 전기적인 방전으로 인해 생기는 전하를 띤 양이온과 전자들의 집단을 플라즈마라고 하고 그 물리적인 성질을 연구하는 것이 플라즈마 물리학이다.플라즈마란 소위 `제 4의 물질상태`라고 알려져 있으며, 우주의 99%가 플라즈마 상태로 이루어...............
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다.
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-> CVD : Plasma를 이용하여 기상합성으로 기능성 막을 생성시키는 방법(주로 반도체 분야의 thin film 형성에 적용).
[기계工學] 플라즈마에 대한 特性(특성) 및 적용분야
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